UV、H2O2、O3及其聯(lián)用工藝對(duì)水中DMP的去除效果和降解機(jī)理分析
論文類(lèi)型 | 技術(shù)與工程 | 發(fā)表日期 | 2008-02-01 |
來(lái)源 | 中國(guó)水網(wǎng) | ||
作者 | 芮旻、高乃云、徐斌、趙建夫、樂(lè)林生、吳今明 | ||
關(guān)鍵詞 | 飲用水;鄰苯二甲酸二甲酯;高級(jí)氧化;降解機(jī)理;副產(chǎn)物 | ||
摘要 | 采用UV、H2O2、O3及其聯(lián)用工藝對(duì)自來(lái)水本底條件下鄰苯二甲酸二甲酯(DMP)的去除效果、特性及降解機(jī)理進(jìn)行了對(duì)比和分析.采用單獨(dú)的UV光照射不能有效去除DMP;而UV-H2O2聯(lián)用工藝對(duì)DMP具有良好的去除效果.在DMP初始濃度約為1.0mg·L^-1,UV光強(qiáng)為133.9μW·cm^-2,H2O2投加量為20mg·L^-1的條件下,30min后DMP的去除效果可以達(dá)到73.08%,在降解過(guò)程中,監(jiān)測(cè)到DMP氧化產(chǎn)物;當(dāng)DMP初始濃度約為1.0mg·L^-1,O3投加量為3mg·L^-1時(shí),單獨(dú)O3氧 |
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