高分子量高純度陽離子聚丙烯酰胺的合成
論文類型 | 技術與工程 | 發表日期 | 2012-04-01 |
來源 | 環境工程學報 | ||
作者 | 鄭懷禮,尤艷飛,鄧曉莉,鄭美珍,朱國成,相欣奕,蔣紹階 | ||
關鍵詞 | 聚丙烯酰胺 陽離子 高純度 高分子量 殘單量 | ||
摘要 | 以丙烯酰胺與丙烯酰氧乙基三甲基氯化銨為單體,在復合引發劑的作用下,選擇水溶液共聚法合成高分子量與高純度陽離子型聚丙烯酰胺(CPAM)。實驗表明,有機偶氮引發劑A用量0.5‰、氧化還原引發劑用量0.45‰、還原劑與氧化劑摩爾比2∶1、反應體系pH為4與反應時間5 h條件下,CPAM分子量為1 042萬,且溶解性好。通過對聚合物殘單含量影響因素添加劑用量、反應時間的研究,結果表明,添加劑EDTA和增溶劑D對殘留AM含量影響小,而苯甲酸鈉對聚合物殘留AM的含量影響顯著;延長反應時間至7 h,殘單含量可降低至0. |
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