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新型氣浮裝置ES-DAF中氣泡粒徑分布的表征

論文類型	基礎研究	發(fā)表日期	2014-10-14
來源	《環(huán)境科學》2004年第25卷第1期
作者	陳福泰,左華,李久義,范正虹,欒兆坤
關鍵詞	溶氣氣浮氣泡粒徑分布溶氣系統(tǒng) CCD成像
摘要	對ES-DAF氣浮裝置進行了研究．該裝置取消了溶氣灌，在循環(huán)泵的壓水管和吸水管之間裝有一個射流器和一個靜態(tài)混合器進行吸氣和溶氣．采用顯微攝像系統(tǒng)，對該裝置中氣泡粒徑分布進行了探討結果表明，當環(huán)流比由10％增加到40％時氣泡平均粒徑由52．9μm降低到40．9μm，當表觀氣水比由12％降低到4％時，氣泡平均粒徑由55．9μm降低到40．1μm．這說明提高溶氣系統(tǒng)中的紊流強度能夠形成更多的原始氣泡核位，從而可以形成更小的氣泡．隨著溶氣壓力由300kPa增加到600kPa，氣泡粒徑分布曲線變低變寬說明壓力的升高

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