應(yīng)用遺傳算法建立云杉針葉表面PCDD/ Fs 光解半衰期的預(yù)測模型
| 論文類型 | 基礎(chǔ)研究 | 發(fā)表日期 | 2005-03-01 |
| 來源 | 環(huán)境科學(xué) 2005年3月 第26卷 第2期 | ||
| 作者 | 牛軍峰,余剛,韓文亞 | ||
| 關(guān)鍵詞 | 遺傳算法 PCDD/Fs 定量結(jié)構(gòu)2性質(zhì)關(guān)系(QSPR) 量子化學(xué)參數(shù) | ||
| 摘要 | 采用量子化學(xué)PM3 算法計(jì)算PCDD/Fs的量子化學(xué)參數(shù),應(yīng)用遺傳算法( Genetic Algorithm , GA) 對(duì)所建模型中的變量進(jìn)行篩選,建立了能預(yù)測吸附到云杉[ Picea abies (L.) Karst.]針葉表面的PCDD/ Fs 光解半衰期( t1/2 )的定量結(jié)構(gòu)-性質(zhì)關(guān)系(QSPR) 模型,認(rèn)為影響PCDD/Fs 光解速率的主要因素是分子最高占據(jù)軌道能( EHOMO) 、前線分子軌道能量差( ELUMO-EHOMO) 和平均極化率(α) . | ||
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