劉兆勇 周從直 官舉德 (解放軍后勤工程學(xué)院) 摘 要: 針對飲用水進(jìn)行深度處理提出紫外光激發(fā)催化氧化(UV/TiO2/H2O2)工藝,研究表明:①UV/TiO2/H2O2工藝能有效去除水中的CHCl3;②CHCl3的光氧化降解遵循一級動力學(xué)反應(yīng)規(guī)律,反應(yīng)速率常數(shù)與H2O2投加量及紫外線輻射強(qiáng)度相關(guān)。 關(guān)鍵詞: 飲用水處理 有機(jī)微污染物 光化學(xué)氧化 三氯甲烷 1 試驗(yàn)原理與方法 1.1 試驗(yàn)裝置 水處理的主體試驗(yàn)是在一個容積約為12 L的光反應(yīng)器中進(jìn)行的,該反應(yīng)器設(shè)計(jì)為環(huán)型內(nèi)管式,紫外光源(UV)位于反應(yīng)器的中央,燈管外有石英玻璃套管使燈管不與水接觸,下部設(shè)有微孔鈦板;水流自下而上流經(jīng)光反應(yīng)器,流程見圖1。 
試驗(yàn)在自行研制的光反應(yīng)器平臺上完成。光反應(yīng)器構(gòu)造見圖2。其中有機(jī)玻璃筒體內(nèi)徑130 mm,壁厚10 mm,高1000 mm;固定相催化劑圓筒采用自行研制的載TiO2厚0.4 mm的不銹鋼板圓筒,貼于有機(jī)玻璃筒體內(nèi)壁;石英套管外徑36 mm,壁厚2 mm,長1 100 mm;30 W紫外線燈管主波長為253.7nm;曝氣鈦板孔徑為10~20 μm,有效布?xì)饷娣e為內(nèi)徑60 mm、外徑110 mm的圓環(huán)。 
光反應(yīng)器設(shè)計(jì)時,需重點(diǎn)考慮紫外光源的選擇、水的吸收系數(shù)、紫外線穿透深度和反應(yīng)器選材及構(gòu)型等,使UV強(qiáng)度、水消光值和水力學(xué)均達(dá)到較佳的UV效率。紫外光在水中透射受水質(zhì)和水深的影響;紫外燈管的光強(qiáng)度取決于燈的大小和輸出功率;光反應(yīng)器的容積大小應(yīng)考慮處理水樣的體積、原水水質(zhì),即應(yīng)停留時間、安裝燈管的數(shù)量。 1.2 光催化劑 選用TiO2作為光催化劑。為保持催化穩(wěn)定性和防止催化劑中毒,以TiO2陶粒化及金屬薄板附載方法將催化劑固定。TiO2催化劑可分為銳鈦型、金紅石型等晶型,前者催化活性優(yōu)于后者。試驗(yàn)用TiO2粉末及TiO2粘土陶粒全部為銳鈦型。 1.3 試驗(yàn)用微量有機(jī)物 選用三氯甲烷作為試驗(yàn)用微量有機(jī)物。 1.4 試驗(yàn)內(nèi)容及測定方法 試驗(yàn)主要分為兩部分:①催化劑的研制;②水中三氯甲烷在紫外光激發(fā)催化氧化工藝下降解規(guī)律試驗(yàn)。? 分析項(xiàng)目及測試方法見表1。 表1 分析項(xiàng)目及測試方法分析項(xiàng)目 | 測試方法 | 催化劑 | 晶型鑒定 | X光衍射法 | 固定化過程的影響鑒別 | 金相顯微鏡法 | 臭氧濃度 | 碘量測定法 | 過氧化投加量 | 高錳酸鉀滴定法 | 三氯甲烷定量分析 | 氣液平衡—?dú)庀嗥胶夥?/TD> | 2 結(jié)果與討論 2.1 試驗(yàn)結(jié)果 試驗(yàn)以H2O2作為氧化劑,用二次蒸餾水配制水樣。光激發(fā)氧化采用UV/H2O2工藝;光催化氧化采用UV/TiO2工藝;光激發(fā)催化氧化采用UV/TiO2/H2O2工藝。CHCl3的初始濃度為150μg/L,H2O2投加量80mg/L,三種工藝對飲用水中CHCl3的降解結(jié)果見表2。 表2 不同時刻飲用水中CHCl3的濃度值工藝 | 時間(min) | 0 | 10 | 20 | 30 | 40 | 50 | 60 | 70 | 80 | 90 | UV/TiO2 | 150 | 146 | 136 | 128 | 118 | 109 | 98 | 87 | 78 | 72 | UV/H2O2 | 150 | 143 | 131 | 120 | 109 | 99 | 90 | 80 | 71 | 65 | UV/TiO2/H2O2 | 150 | 135 | 121 | 108 | 96 | 85 | 75 | 66 | 59 | 53 | 從表2可看出,UV/TiO2/H2O2工藝能有效去除水中的CHCl3,相同條件下UV/TiO2/H2O2的去除率比UV/TiO2、UV/H2O2分別提高了15.3%及10.0%。 研究發(fā)現(xiàn),隨著反應(yīng)時間的延長及H2O2投加量的增加,CHCl3迅速降解,去除百分率與反應(yīng)時間近似呈線性相關(guān)。將不同工況時的去除率數(shù)據(jù)用一級反應(yīng)速率方程擬合,即作出-ln(C/C0)和歷時t的數(shù)據(jù)圖,見圖3。 圖3擬合曲線方程為: -ln(C/C0)=K1+K2·t (1) 式中 C--t時刻CHCl3的濃度,μg/L C0--t=0時CHCl3的濃度(即初始濃度),μg/L K1--試驗(yàn)常數(shù),K1=-0.01448 K2--反應(yīng)速率常數(shù),與輻射強(qiáng)度及H2O2投加量有關(guān),K2=0.01177 
光化學(xué)氧化工藝是一個非常復(fù)雜的過程,下面就pH值、溫度、水中雜質(zhì)離子、H2O2投加量、紫外光輻射強(qiáng)度、有機(jī)物綜合去除效果等問題進(jìn)行討論。 2.1.1 pH值 研究表明,中性時光氧化反應(yīng)速率較大。實(shí)際可以不考慮pH值對光氧化的影響,對于飲用水,根據(jù)GB5749-85《生活飲用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)》,pH值最大允許范圍為6.5~8.5。 2.1.2 溫度 研究發(fā)現(xiàn),溫度對光氧化工藝影響不大。 2.1.3 水中雜質(zhì)離子 HCO3-是一種非常強(qiáng)的氫氧激發(fā)基.OH去除劑,故應(yīng)去除水中HCO3-、CO32-、SO32-等離子[4]。 2.1.4 H2O2投加量 提高H2O2投加量增加水體中·OH基可以提高反應(yīng)速率。 2.1.5 紫外光輻射強(qiáng)度 對于給定條件的反應(yīng),存在一個最佳的紫外輻射量。 2.1.6 有機(jī)物的綜合去除效果 試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),自來水中CHCl3的去除效果低于蒸餾水中的去除效果。反應(yīng)產(chǎn)生的·OH基對有機(jī)物的去除具有廣譜效應(yīng),很少具有選擇性。自來水多種有機(jī)雜質(zhì)的競爭反應(yīng)是產(chǎn)生上述現(xiàn)象的重要原因,反之也說明,光激發(fā)催化氧化工藝可以同時去除水中多種有機(jī)物,使水質(zhì)得到全面改善。 2.2 機(jī)理分析 當(dāng)有機(jī)物分子吸收紫外光(UV)時,電子從分子的σ和π成鍵軌道或者非鍵軌道n躍遷到分子的σ*和π*反鍵軌道,σ成鍵軌道的基態(tài)能級最低,σ*反鍵軌道的能級則最高。研究表明,UV對氧化劑的分解作用比直接對有機(jī)物的作用更為有效,氧化劑產(chǎn)生的氫氧激發(fā)基·OH的氧化反應(yīng)是主要反應(yīng)。·OH是一種強(qiáng)氧化劑,能迅速氧化各種有機(jī)物。 光催化氧化以半導(dǎo)體的能帶理論為基礎(chǔ)。半導(dǎo)體粒子含有能帶結(jié)構(gòu),分為導(dǎo)帶CB和價(jià)帶VB,由禁帶分開。當(dāng)照在半導(dǎo)體粒子上的光子能量大于禁帶寬度時,電子從價(jià)帶躍遷到導(dǎo)帶,產(chǎn)生光生電子e-和光生空穴h+。光生空穴具有強(qiáng)氧化性,光生電子具有強(qiáng)還原性,當(dāng)活潑的空穴、電子穿過接觸界面就氧化或還原了吸附在表面的有機(jī)物,CHCl3被電子—空穴對氧化降解(見圖4)。 
光激發(fā)催化氧化UV/TiO2/H2O2工藝中的·OH基,無論是來自于UV/H2O2的光激發(fā)氧化,還是來自于UV/TiO2的光催化氧化,都能夠迅速氧化降解CHCl3,其反應(yīng)降解歷程見圖5[5]。 
① 紫外光激發(fā)催化氧化UV/TiO2/H2O2工藝能有效地去除水中的CHCl3,相同條件下,UV/TiO2/H2O2工藝的去除率分別比UV/TiO2、UV/H2O2的去除率提高了15.3%及10.0%。 ② CHCl3主要是由·OH氧化降解的,也存在H2O2氧化和微弱的直接光解。 ③ CHCl3的光氧化降解屬于一級動力學(xué)反應(yīng),反應(yīng)速率常數(shù)與H2O2投加量及紫外線輻射強(qiáng)度相關(guān)。 參考文獻(xiàn) 1 國家環(huán)境保護(hù)局.1996年中國環(huán)境狀況公報(bào).環(huán)境保護(hù),1997;(6):3~6 2 夏曙演,魏興義.光催化氧化處理水中有機(jī)污染物.上海環(huán)境科學(xué),1994;13(6):9~11 3 唐森本,王歡暢等.環(huán)境污染有機(jī)化學(xué).冶金工業(yè)出版社,1996 4 Pailland. Ozone Science & Engineering.1987;(9): 391~418 5 Cart S R,Brich K G et al?.Rayox -A second generation enhanced oxidation process for process and groundwater remediation. Water Pull Res J Canada,1992;27(1): 151~168
作者簡介:劉兆勇(1971- ) 男 解放軍后勤工程學(xué)院講師 碩士 通訊處:400041 重慶市渝州路79號 后勤工程學(xué)院?水暖教研室 電 話:(023)68756379E-mail:zdh01@cqleu.edu.cn |