光催化-光合細(xì)菌法處理印染廢水的基礎(chǔ)性應(yīng)用研究
| 論文類型 | 技術(shù)與工程 | 發(fā)表日期 | 2004-11-01 |
| 來源 | <<水處理技術(shù)>> 2004年 第30卷 第01期 | ||
| 作者 | 馬杰,馬躍,胡洪營(yíng),何亞明 | ||
| 關(guān)鍵詞 | 光催化 光合細(xì)菌 印染廢水 CODcr去除率 脫色率 | ||
| 摘要 | 通過光催化的基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn),確定光催化降解染料的工藝條件是:光源為低壓汞燈,光強(qiáng)為6.0mW/cm2,光照時(shí)間為6h,染料初始濃度為50～80mg/L,光催化劑用量為250g/L,pH值為4.0.通過光催化-光合細(xì)菌法和光合細(xì)菌法處理印染廢水相比較,兩者的CODCr去除率分別為50%和30%. | ||
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